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PRECOPLAT ermöglicht legale Graffiti Wall in Krefeld

Im Auftrag gestaltete das Künstlerduo um Tom Kutschke von Neighborhood Artworks eine Wand auf dem Gelände von PRECOPLAT – nun stehen weitere Teile für Sprayer kostenlos zur Verfügung

Die Ritterstraße in der Nähe der Hauptfeuerwache in Krefeld war bisher nicht als interessante Ecke bekannt. Dieser Ruf kann sich aber in Kürze ändern. Unweit entfernt von einer Graffitiwall am Voltaplatz, befindet sich nun eine weitere Legal Wall in direkter Nähe.

Das Nutzen der Wand und die angrenzende Toreinfahrt auf der Ritterstraße wird durch das Familienunternehmen PRECOPLAT kostenfrei zur Verfügung gestellt. Geschäftsführerin Katherina VÖLKER, die das Unternehmen zusammen mit Ihrem Bruder Andreas BRÜGGEN führt, erläutert die Motivation der Aktion: „Wir möchten damit aktiv beitragen, das Stadtbild zu verschönern und gleichzeitig Räume für Jugendliche schaffen. Der zentral gelegene und beschilderte Abschnitt steht allen Künstler*innen zum kreativen Ausleben Ihres Hobbys zur Verfügung“. Der Standort wurde auf legal-walls.net eingetragen.

Als Anschub erteilte PRECOPLAT zuvor einen Auftrag für ein Graffito auf dem ersten Abschnitt der Wand. Hier wurde durch „Neighborhood Artworks“ ein Bild gesprüht, welches abstrakt Logo und Produkte des Unternehmens widerspiegelt. Die Neighborhood Artworks sind ein kreatives Duo aus Berlin und Köln. Das Duo entwickelt visuelle Gestaltungskonzepte und passende Strategien für die Bereiche Fassaden- und Innenraumgestaltung, Illustration, Corporate Design, Editorial Design, Logos und Werbemedien.

Tom Kutschke bei der Arbeit

Geht es nach den Vorstellungen des Familienunternehmens, wird sich die Umgebung des Firmengeländes zu einem einzigartigen „Graffiti Boulevard“ verwandeln und als Kultur-Oase Jung und Alt gleichermaßen begeistern. Zu dessen Umsetzung wurden bereits weitere Flächen für eine Urban Art Gallery zur Verfügung gestellt, welche im Rahmen des Stadtjubiläums von Krefeld entsteht.

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Galvanisch Nickel Gold (Hart- und Bondgold)

Auch Hartvergoldung genannt. Im Unterschied zum ENIG-Prozess wird zwar auch Nickel als Diffusionssperre zum Kupfer eingesetzt, jedoch wird das Gold galvanisch, das heißt mit einer Außenstromquelle abgeschieden. Somit können wesentlich größere Schichtdicken von 0,8 – 5 µ erreicht werden. Dieses „Hartgold“ wird für Leiterplatten mit Steckerleisten eingesetzt, die mehrfach gesteckt werden. Je dicker das Gold, umso höher die Anzahl der Steckzyklen (Beispiel: 0,4 µ Au = 20 Steckzyklen, 2 µ = 500 Steckzyklen).

OSP (Organic Surface Protection)

OSP ist eine organische Lösung, die durch ein Tauch- oder Spülbad selektiv auf lötbare Kupferoberflächen mit einer Schichtstärke von 0,02 bis 0,06 µ abgeschieden wird. Die Oberfläche ist plan und eignet sich gut für feine SMD-Bestückung. Mehrfache Lötprozesse sind nicht möglich, da sich die transparente Schicht bei Temperaturen jenseits von 150 °C zersetzt.

Die Lagerfähigkeit ist auf 6 Monate begrenzt.

Chemisch Silber (chem Ag.)

Chemisch Silber ist eine metallische, sehr gut mehrfach lötbare Endoberfläche mit einer Schichtstärke von 0,15 – 0,45 µ, die außenstromlos auf Lötstellen abgeschieden wird (ähnlich dem Prozess Chemisch Zinn). Die Oberfläche ist plan und eignet sich gut für die SMD Bestückung.

Eine Lagerzeit von bis zu 6 Monaten ist möglich. Ähnlich wie bei Chemisch Zinn verliert die Oberfläche ihre Lötfähigkeit durch Schwankungen der Umgebungstemperatur und Luftfeuchtigkeit. Die Oberflächen dürfen keinesfalls mit schwefelhaltigen Materialien in Berührung kommen (wie beispielsweise bestimmte Arten von Packpapier).

Chemisch Zinn (chem. Sn)

Chemisch Zinn ist eine metallische, sehr gut lötbare Endoberfläche. Eine dünne Schicht von ca. 0,8 – 1,2 µ Zinn wird außenstromlos auf dem Kupfer der Lötstellen abgeschieden, wo es die Oxidation des Kupfers verhindert. Die Oberfläche der Pads ist sehr plan und eignet sich somit besonders für SMD-, CoB- und HDI- und Einpresstechnik.

Die Lagerzeit sollte 6 Monate nicht überschreiten. Feuchtigkeit und Temperaturunterschiede während der Lagerung können die Lötfähigkeit beeinträchtigen.

ENEPIG (Electroless Nickel Electroless Palladium Immersion Gold)

Zwischen den Prozessschritten Nickel und Gold beim ENIG-Prozess wird beim ENEPIG zusätzlich Palladium als Zwischenschicht (0,05 – 0,25 µ Dicke) außenstromlos in die Endoberfläche eingefügt.

Diese zusätzliche Schicht ist nicht nur hervorragend für alle Lötvarianten geeignet, sondern wird vor allem für das Golddrahtbonden verwendet. Das Verfahren gilt als sehr teure Spezialanwendung.

Chemisch Nickel Gold (ENIG = Electroless Nickel Immersion Gold)

ENIG oder Chemisch Nickel Gold ist eine metallische, sehr gut lötbare Endoberfläche. Sie wird auf der Kupferschicht der Lötstellen mit einer Schichtstärke von 4 – 9 µ Nickel und idealerweise 0,05 – 0,1 µ Gold abgeschieden, wodurch die Oxidation des Kupfers verhindert wird. Die Abscheidung erfolgt außenstromlos mit Hilfe von katalytischen Prozessen sowie des elektrischen Potentialunterschieds (Wertigkeit) der eingesetzten Metalle.

Die Oberfläche ist sehr plan, die mehrfache Lötfähigkeit für SMD, Cob und HDI-Technik sowie Aludrahtbonden geeignet und verfügt über eine Lagerfähigkeit von bis zu 12 Monaten.

Die Oberfläche ist IPC-4552 spezifiziert und erfüllt die aktuellen Anforderungen von RoHs und WEE.

Heißluftverzinnung (HAL = Hot Air Leveling)

Der Begriff Heißluftverzinnung wird sowohl für das Produktionsverfahren als auch für die Oberfläche von Leiterplatten mit 99,55 % Sn (Zinn), 0,3 % Ag (Silber) und 0,15 -0,05 % Ni (Nickel), verwendet. Sie soll das darunter liegende Kupfer der Lötstellen vor Oxidation schützen.

Die Leiterplatten werden in eine Heißschmelze (> 260°C) aus den genannten Metallen eingetaucht. Danach werden die zu verzinnenden Oberflächen mit heißer Druckluft plan und die Bohrungen frei geblasen. Die Oberfläche ist für mehrfaches Löten sehr gut geeignet und bis zu 12 Monate lagerfähig.

HAL ist bei radialer Bestückungs- und einseitiger SMD-Technik qualitativ und preislich sehr attraktiv. Unser Lot ist bleifrei und erfüllt die RoHS-Richtlinien.